На лінії обробки скла процес висушування нанопокриття є критичним етапом – саме тут визначаються продуктивність та якість готового продукту. Якщо профіль висушування змінюється хоча б трохи, з’являються мікродефекти на поверхні покриття, нерівномірна емісивність, а також ризик появи теплових напружень – особливо на закалених та вигнутих частинах. Конвекційні печі просто не можуть швидко реагувати на зміни умов, а звичайні лампи часто створюють „гарячі“ та „холодні“ зони, що призводить до оптичних деформацій після ламінування чи фінальної перевірки.
Що є важливим з технічної точки зору?
Ця лампа для висушування нанопокриття використовує короткочастотне інфрачервоне випромінювання, яке дозволяє ефективно нагрівати тонкі шари покриття без пошкодження самого матеріалу. Кварцовий корпус захищає пристрій від теплових ударів, а геометрія відбивача забезпечує однорідне теплове поле по всій поверхні скла. Лампа досягає повної потужності за кілька секунд, тож може супроводжувати швидкість роботи лінії без необхідності очікування на нормалізацію температури.
Це означає можливість стабільного контролю температури під час процесу висушування – саме те, що потрібно при обробці скла різної товщини та з різними шарами покриття.
Чому цей пристрій підходить для цього процесу?
Під час обробки скла процес висушування мусить супроводжувати процедури закалювання та згинання скла. Лампа швидко досягає необхідної температури, скорочує час обробки та спрощує процедуру заміни покриття. Однорідне випромінювання запобігає локальному перегріву, що допомагає зберегти цілісність країв скла та зменшує кількість відмов через теплові напруження.
Використання енергії зменшується, оскільки енергія йде безпосередньо на покриття, а не на нагрів повітря та елементів обладнання. У нас є пристрої, які працюють понад 5,000 годин із зниженням продуктивності менше ніж на 5%. Модульна конструкція дозволяє легко замінити пристрій у будь-якій системі опалення.
Деталі, які роблять пристрій ефективним
Установка пристрою є простою, але правильна налаштування є критично важливою. Необхідно підібрати пристрій відповідно до ширини скла та зберігати однакову відстань між пристроєм та склом; інакше на поверхні покриття з’являться нерівномірності. Пристрій потребує стабільного джерела живлення та належного охолодження, щоб температура кварцу та відбивача залишалась в заданих межах.
Пристрій оптимізований для покриттів, які добре поглинають інфрачервоне випромінювання. Якщо використовуються високо відбивні чи прозорі покриття, може знадобитися інший спектральний профіль чи двоступеневий процес висушування. Плануючи розташування пристрою на лінії, можна досягти стабільного процесу висушування без зниження швидкості роботи лінії.